Numerical aperture resolution

Most items can be ordered online. Clicking the part number will display the current price of the item. If you prefer, call or e-mail our sales department to obtain a price list or a price quotation.

Fiber NA

In optischen Systemen wird die NA als Sinus des Halbwinkels (θ) des maximalen Lichtkegels definiert, der in das optische System eintreten oder aus ihm austreten kann, multipliziert mit dem Brechungsindex (n) des Mediums, in dem die Linse arbeitet:

Im Zusammenhang mit der Lithografie beeinflusst die NA nicht nur die Auflösung, sondern auch die Tiefenschärfe des photolithografischen Prozesses. Nach dem Rayleigh-Kriterium ist die Auflösung (R) umgekehrt proportional zur numerischen Apertur:

Numerical aperture to f-number

Numerical aperture formula

Darüber hinaus erfordern Systeme mit hoher numerischer Apertur typischerweise die Verwendung kürzerer Lichtwellenlängen, um Beugungsbeschränkungen zu vermeiden.

Entdecken Sie eine große Auswahl an hochwertigen optischen Komponenten für alle Ihre Anforderungen. Verbessern Sie Ihre Präzision und Klarheit mit unseren branchenführenden Produkten.

Payment terms are net 30 days from the date of invoice for all customers with established lines of credit. Letter of Credit or pre-payment is required from many foreign customers; please check with our Sales Department before ordering. In addition, all foreign orders are subject to any shipping and banking charges that may be incurred. Authorization must be obtained for any product returns (see our return policy). Blanket orders carry additional terms and conditions.

Numerical aperture of lens

Dabei stellt λ die Wellenlänge des in der Lithographie verwendeten Lichts dar. Eine höhere NA ermöglicht die Strukturierung kleinerer Strukturen, was für die Weiterentwicklung der Halbleitertechnologie und die Entwicklung leistungsfähigerer Mikrochips von entscheidender Bedeutung ist.

Credit card orders can be placed online. You can search for products or browse the site. When you find the item in which you are interested, just click the part number to add it to your cart. Use our secure connection for worry-free checkout.

Convert NA to angle

All standard catalog items are normally shipped within 3 days of receipt of the order. In the event an item is out of stock, our Sales Department will quote an estimated delivery (usually within 2 weeks).

All sales by Andover Corporation (“Andover”) of Products shall be subject to the following Limited Warranty and other terms and conditions contained herein.

All specifications are subject to change without notice. If a particular specification is critical to your application, please state so when ordering.

High NA lens

Die numerische Apertur (NA) ist in der Lithografie ein entscheidender Parameter, der die Auflösung eines lithografischen Systems demonstriert, das zum Drucken feiner Muster auf Halbleiterscheiben bei der Herstellung integrierter Schaltkreise verwendet wird. Die NA ist eine dimensionslose Zahl, die den Winkelbereich charakterisiert, über den das System Licht aufnehmen oder abgeben kann. Eine höhere NA zeigt die Fähigkeit an, auf feinere Details zu fokussieren und somit die Auflösung der gedruckten Merkmale zu verbessern.

All prices are F.O.B. Salem, New Hampshire. All Fed Ex and UPS shipments are shipped freight prepaid and billed to the buyer. All other methods of shipment are either sent freight collect or charged to the buyer's account.

Eine hohe NA ist zwar für eine höhere Auflösung wünschenswert, bringt aber auch Nachteile mit sich. So verringert sich beispielsweise mit zunehmender NA die Tiefenschärfe (DoF). Diese Verringerung der Tiefenschärfe kann dazu führen, dass es schwierig ist, den Fokus über die gesamte Waferoberfläche hinweg beizubehalten, was strengere Prozesskontrollen und eine präzisere Waferplanheit erforderlich macht. Darüber hinaus sind mit einer Erhöhung der NA oft komplexere und teurere optische Systeme sowie fortschrittlichere Beleuchtungstechniken verbunden.

Verbal, written, and fax orders are acceptable provided your company has an open line of credit with Andover Corporation. All orders from new customers must be confirmed in writing and credit references must be supplied upon request. All orders accepted are subject to current terms and prices.

Da die Strukturgrößen von Halbleitern immer kleiner werden, wurde der Lithografieprozess angepasst, um Licht mit kürzeren Wellenlängen und Linsen mit höherer numerischer Apertur zu verwenden. Ein solcher Fortschritt ist die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUV). Dabei wird Licht mit einer viel kürzeren Wellenlänge verwendet, was kleinere Strukturgrößen ermöglicht und somit die Fortsetzung des Mooreschen Gesetzes unterstützt.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die numerische Apertur eine grundlegende Rolle bei der Definition der Auflösung und des Fokus lithografischer Systeme spielt. Mit dem Fortschritt der Halbleiterindustrie wird auch die optische Technik immer weiter innovativ, wobei die numerische Apertur verbessert und verschiedene Parameter angepasst werden, um die Grenzen der Kleinheit und Präzision der Merkmale auf einem Chip zu erweitern.